研发方向

项目

目前能力

2009

2010

最高层数

18

24

30

线宽/线距

内层(mil)

4/4

3/3

3/3

外层(mil)

4/4

4/4

4/3

板厚/孔径比

10:1

12:1

15:1

铜 厚(oz)

5

6

8

阻抗控制

±10%

±8%

±5%

材料

高频/微波材料

SV

SV

SV

 

无卤素材料

SV

SV

SV

 

无铅材料

SV

SV

SV

 

混合层压

/

P

SV

 

金属基/芯

P

SV

SV

 

高Tg

SV

SV

SV

HDI

1+N+1

/

P

P

埋入式电阻/电容

/

/

P

P:样品; SV:小批量